Informace o projektu
Pokročilé laserové procesy výroby polovodičových desek

Logo poskytovatele
Kód projektu
CZ.01.01.01/01/24_063/0006908
Období řešení
7/2025 - 6/2028
Investor / Programový rámec / typ projektu
Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR
Fakulta / Pracoviště MU
Přírodovědecká fakulta
Spolupracující organizace
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Vysoké učení technické v Brně
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
Activair s.r.o.

Karbid křemíku (SiC) má zásadní význam v polovodičových aplikacích pracujících s velmi vysokými výkony, včetně elektromobility, obnovitelné energie a AI. Vynikající elektrické a tepelné vlastnosti SiC společně s technologickou kompatibilitou s běžnou technologií na bázi křemíku byly hlavními hnacími silami nedávného rozmachu oblasti trhu SiC. Přes nedávný technologický pokrok jsou vysokoteplotní růst monokrystalického SiC (>2000 °C), výjimečně vysoká tvrdost a chemická stabilita SiC hlavními faktory odpovědnými za více než 50ti procentní podíl substrátu na konečné ceně hotové součástky. Procesy a technologie podporované laserem jsou slibnými alternativami k současným mechanickým, chemickým a tepelným metodám, a mohou tak poskytnout cestu k dlouhodobě udržitelnému snížení výrobních nákladů se zvýšenou účinnosti.

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.