Informace o projektu
Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
(CEPLANT plus)
- Kód projektu
- LO1411
- Období řešení
- 1/2015 - 12/2019
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Národní program udržitelnosti I (LO)
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
Projekt Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy slouží k podpoře udržitelnosti a dalšímu rozvoji centra CEPLANT vybudovaného v rámci OP VaVpI. Projekt bude zaměřen zejména na základní výzkum, který je nezbytným východiskem pro kvalitní aplikovaný výzkum v oblasti plazmových technologii.
Publikace
Počet publikací: 518
2018
-
Zařízení pro dekontaminaci vzdušnin znečištěných uhlovodíky
Rok: 2018
-
Zařízení pro plazmovou úpravu povrchů substrátů
Rok: 2018
-
Zařízení pro testování mechanické stability vrstev
Rok: 2018
2017
-
2D particle-in-cell simulations of the electron drift instability and associated anomalous electron transport in Hall-effect thrusters
PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY, rok: 2017, ročník: 26, vydání: 3, DOI
-
A Multihollow microplasma discharge for remote plasma atmospheric pressure surface treatments
Rok: 2017, druh: Konferenční abstrakty
-
Ambient air plasma pre-treatment of non-woven fabrics for deposition of antibacterial poly (l-lactide) nanoparticles
Plasma Processes and Polymers, rok: 2017, ročník: 14, vydání: 10, DOI
-
An Array of Micro-hollow Surface Dielectric Barrier Discharges for Large-Area Atmospheric-Pressure Surface Treatments
Plasma Chemistry Plasma Processing, rok: 2017, ročník: 37, vydání: 4, DOI
-
Application of imaging spectroscopic reflectometry forcharacterization of gold reduction from organometallic compound bymeans of plasma jet technology
Applied Surface Science, rok: 2017, ročník: 396, vydání: FEB, DOI
-
Areal homogeneity verification of plasma generated by diffuse coplanar surface barrier discharge in ambient air at atmospheric pressure
Contributions to Plasma Physics, rok: 2017, ročník: 57, vydání: 4, DOI
-
Atmospheric pressure plasma etching of silicon dioxide using diffuse coplanar surface barrier discharge generated in pure hydrogen
Surface & coatings technology, rok: 2017, ročník: 309, vydání: January, DOI