Informace o projektu
CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
- Kód projektu
- CZ.1.05/2.1.00/03.0086
- Období řešení
- 12/2010 - 12/2014
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Operační program Výzkum a vývoj pro inovace (VaVpI)
- 2.1 Regionální VaV centra
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
- WWW stránky projektu
- http://www.ceplant.cz
Účelem projektu je vybudovat regionální VaV centrum v oblasti nízkonákladových nanotechnologických povrchových úprav schopné pružně reagovat na poptávku aplikační sféry a to především malých a středních podniků (MSP) a poskytovat praktická řešení technologických problémů pro průmyslové partnery z podstatné časti sektorů průmyslu v ČR. V dlouhodobém horizontu je vizí projektového týmu vybudovat Centrum, které bude vyhledávaným VaV partnerem i pro velké nadnárodní společnosti.
Publikace
Počet publikací: 621
2011
-
Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene
Rok: 2011, druh: Konferenční abstrakty